Naura Technology Group
PVD装置出荷台数が1,000台を突破
5月28日、Naura Technology GroupはPVD装置出荷台数1,000台を記念する盛大な式典を開催しました。これは、エッチング装置、縦型炉装置に続き、同社にとって3番目の製品カテゴリーにおける単一製品出荷台数1,000台突破の節目となります。これは、同社の技術力と市場認知度の高さを示すだけでなく、コア半導体製造装置分野におけるNaura Technology Groupの新たな前進を象徴するものです。
PVD（物理蒸着）技術は、チップ製造において重要な工程であり、特に金属薄膜の形成には不可欠です。この薄膜はチップ相互接続の中核部品であり、チップ全体の性能にとって極めて重要です。世界のPVD装置市場は年間50～60億ドルを超え、力強い成長を続けています。
中国におけるPVDプロセス装置技術のパイオニアとして、Naura Technology Groupは2008年からPVD装置の研究開発に深く関わってきました。同社は40種類以上の量産PVD装置モデルを市場に投入し、累計出荷台数は1,000台、チャンバー数は5,000台を超え、中国におけるPVD装置ソリューションプロバイダーのリーディングカンパニーとなっています。同社の製品は、ロジック、メモリ、パワーデバイス、先端パッケージング、シリコンベースマイクロディスプレイ、MEMS（微小電気機械システム）、半導体照明など、半導体および関連分野で幅広く利用されており、業界の発展を力強く支えています。
NauraのPVDチームは、継続的な技術革新を通じて、マグネトロンスパッタリング源設計、高真空静電チャック、プラズマ生成・制御、チャンバー設計・シミュレーション、パーティクル制御、ソフトウェア制御といった主要技術において数々のブレークスルーを達成し、独自の知的財産権を有するコア技術の優位性を築いてきました。同社の装置は複数世代の半導体技術を網羅し、ロジックおよびメモリチップのメタライゼーションプロセスの産業化と包括的なカバーを実現しています。集積回路分野では、銅コンタクト、アルミパッド、メタルハードマスク、メタルゲート、シリサイド用のPVD装置が、顧客向けに1,000万枚以上のウェーハの安定した量産を実現し、多くの顧客にとってベースライン装置および業界標準装置となっています。これらの成果の中で、メタルゲートPVD製品はコアプロセスの限界を突破し、安定した量産を実現しました。銅配線PVD製品は、インターメタル配線とトップメタル配線の両方の量産をサポートしています。また、アルミPVD製品は、ロジック、DRAM（ダイナミックランダムアクセスメモリ）、3D NAND（フラッシュメモリ）分野で広く利用されており、アルミパッドや再配線層（RDL）などのプロセスにおける1～7マイクロメートルの膜厚要件を完全にカバーしています。
Naura Technology Groupは今後も、顧客中心のイノベーション理念を堅持し、基礎的な半導体製品に注力し、高度なソリューションで業界の進歩を牽引し、常に高い目標を目指して努力していきます。
終わり
出典: 元記事を読む
※現在お読みいただいているこの記事は、国内外のニュースソース等から取得した情報を自動翻訳した上で掲載しています。
内容には翻訳による解釈の違いが生じる場合があり、また取得時の状況により本文以外の情報や改行、表などが正しく反映されない場合がございます。
順次改善に努めてまいりますので、参考情報としてご活用いただき、必要に応じて原文の確認をおすすめいたします。