次世代リソグラフィの未来図とは？IMEC専門家が語る最先端技術講演会

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この記事のポイント

• SEAJリソグラフィ専門委員会が「Lithography Now and Next」講演会を開催。
• IMECの専門家が最先端リソグラフィ技術のロードマップと将来展望を解説。
• 持続可能性に焦点を当てた材料・プロセス革新についても言及。
• 6月26日開催、参加無料（SEAJ会員企業）。申込締切は6月18日。

リソグラフィ技術の未来を専門家と探る講演会

SEAJリソグラフィ専門委員会は、革新的なリソグラフィ技術と、Logic、DRAM、SCMなどの各種デバイスにおける技術・市場動向を深く理解するため、定期的に講演会を開催しています。この度、「Lithography Now and Next: The Roadmap of Advanced Patterning」と題した特別講演会を実施します。

本講演会では、リソグラフィ技術の将来展望について、第一線の専門家をお招きしてご講演いただきます。参加者の皆様との活発な意見交換を通じて、委員の皆様の知見を一層深め、企業間の技術的な相乗効果を生み出す場となることを目指しています。皆様のご参加を心よりお待ちしております。

講演会概要

開催日程: 6月26日（金）

開催形式: ハイブリッド開催（SEAJ事務局、Microsoft Teams）

参加費: 無料（SEAJ会員企業）

申込締切: 6月18日（木）

特別講師による最先端技術の解説

今回の講演会では、IMEC（ベルギー）よりDanilo De Simone氏をお招きし、リソグラフィ技術の最前線についてご講演いただきます。

講演内容（抜粋）:

本講演では、最先端パターニングにおけるHigh NA EUVを軸とした今日のリソグラフィ・ロードマップを統合的な視点から提供します。さらに、現在のHigh NA時代を超えた次世代リソグラフィの長期的なビジョンを概説します。また、持続可能性（例: PFASフリーレジスト）に重点を置いた材料およびプロセス革新にも触れ、半導体エコシステム全体にわたるスケーリングと持続可能性のための、先進的かつ協調的な戦略を強調します。

タイムテーブル

15:55	接続開始
16:00	翻訳機能の設定説明
16:05	開催挨拶（リソグラフィ専門委員長）
16:10	ご講演
16:55	質疑応答
17:10	閉会挨拶・接続終了

お申し込み方法と注意事項

お申し込みいただいた方には、すぐに自動返信メールが送信されます。メールが届かない場合は、お手数ですが下記担当までお問い合わせください。

担当: SEAJ事務局 大久保

e-mail: souchi.seigyo@Seaj.or.jp （「★」を「@」に置き換えてください）

TEL: 03-5357-1542（直通） / 03-3261-8260（代表）

【事前準備のお願い】Microsoft Teams接続について

Teamsにスムーズに接続するために、以下の準備をお願いいたします。

• インターネットに接続できるPC
• 音声デバイス（マイク、スピーカー、ヘッドセット等）

◇サポートされているブラウザ: Microsoft Edge, Chrome など

事前にTeamsアプリをインストールしておくと、ゲストとしてスムーズに参加できます。インストールせずにWebブラウザから参加することも可能です。また、音声・カメラデバイスの設定を事前にテストすることをお勧めします。

◇テスト通話の方法:

Teamsの[その他のオプションを表示する場合に選択します] > [設定] > [デバイス] を選択し、[オーディオ デバイス] で [テスト通話を行う] を選択してください。詳細はMicrosoft Teamsのヘルプページをご確認ください。

【当日の参加手順】

開催日の2～3日前に、ページトップに掲載される「20260626_当日のURL_PW.pdf」をクリックし、記載の接続URLにアクセスしてください。

（アプリをインストールしない場合はWebブラウザが起動します。）

• Teams講演会の画面が表示されたら、カメラの使用許可を求められる場合があります。「ブロック」を選択しても構いません。
• [名前を入力]欄に、「会社名」「氏名」がわかるように入力し、[参加]をクリックしてください。例：SEAJ 大久保
• アクセスするとすぐにTeams会議の画面が表示されます。

【その他Teams使用の際の注意事項】

講演中の録音・録画はご遠慮ください。

事務局では、運営の参考のために録画させていただく場合がございます。あらかじめご了承ください。

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