境界を越える力が問われる──半導体業界におけるキャリア開発の視座
半導体業界における個人が持つべきキャリア観とは近年、AI、IoT、自動運転といった先端分野の進展を背景に、半導体産業は世界的に再び脚光を浴びている。米国のNVIDIAや台湾のTSMC
ファウンドリ大手が進める「グリーンファウンドリ」 脱炭素圧力対応は「事業継続の必須条件」に
2024年以降、TSMC、Intel、Samsung Electronicsといった世界トップの半導体ファウンドリが「グリーンファウンドリ（環境負荷を低減するための取り組み）」戦略を強化し始めた。そ
JSR・信越化学・TOKが纏り広げるEUVレジスト覇権争い
半導体の微細化が進む中、EUV技術（極端紫外線リソグラフィ）は2nm以下のプロセスノードに対応するための重要技術として最新技術開発を突き進めている。 (さらに…)
毎年10%超成長の原動力 ～ティアンドエスグループの半導体戦略をCEO・COOが語る～(後編)
【後編】半導体産業の未来図―ティアンドエスグループが未来を加速する、半導体とAIが融合する次世代へー前編では、ティアンドエスグループ株式会社（以下、T&S）が30年以上にわた
毎年10%超成長の原動力 ～ティアンドエスグループの半導体戦略をCEO・COOが語る～(前編)
【前編】半導体産業の未来図―ティアンドエスグループが拓く、高成長を支える「生産システム」とその先にある展望―AI関連株として市場の注目を集めるティアンドエスグループ株式会社（以下、T
微細化限界に挑むSCREENの「SU-3400」 ウェハ洗浄が支える次世代デバイス製造の要素技術とは
サブ10nm世代に突入した現在、半導体の製造工程ではこれまで以上に高精度な洗浄が求められている。特に注目されているのが、露光・エッチング後に行われる「ウェハ洗浄」工程だ。 (さらに&hell
KLAが切り拓くスマートファブの未来 Fab-wide Monitoring戦略とAIによる歩留まりの革新
半導体製造の微細化が進む中、製造歩留まりを高く維持することは、もはや単一装置や工程の最適化だけでは対応できない課題となっている。なぜならナノスケールでの欠陥は、工程間の「つながり」に影響を及ぼし、そ
東京エレクトロンの「Beyond 2nm」戦略と、生成 AI 時代の前工程装置像とは
生成 AI が巻き起こしている社会インフラの再構築。その波は半導体産業の根幹である前工程装置にも押し寄せている。ChatGPT やClaude、Gemini などの生成 AI の学習・推論を支える半
技術革新時代における中古半導体製造装置の新たな価値
朴ソヒアシュリー（Seohee Ashley Park）ビクトリア大学ウェリントン校（NZ）講師 （相当職：助教授）年率15.3%成長が示す中古装置市場の実像「技
2nm 時代の電源革命： BSPDN が拓く次世代のロジック設計
これまで、半導体チップ内の電源配線はすべて「表側（前面）」に配置されてきた。しかし、回路の微細化が進む中で、配線が複雑化し、安定した電力供給を行うことが難しくなってきている。この問題を解決するカギを
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