生成 AI が巻き起こしている社会インフラの再構築。その波は半導体産業の根幹である前工程装置にも押し寄せている。ChatGPT やClaude、Gemini などの生成 AI の学習・推論を支える半導体には、従来とは桁違いの演算性能と製造歩留まりが求められており、2nm 世代以降の微細化と量産性を両立させる技術革新が焦点となっている。
こうした中、東京エレクトロン（TEL）は単なる装置供給企業にとどまらず、次世代技術とサプライチェーン変化を見据えた戦略的プレイヤーとして存在感を高めている。とくに、EUV 後工程に対応したドライレジスト技術や、CoO（Cost of Ownership）削減を重視した装置設計は、AI 時代のニーズを的確に捉えた布石といえるだろう。本稿ではこうした TEL の AI 時代のニーズへの対応戦略、つまり「Beyond 2nm」戦略と、前工程の新しい装置像を探る。
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