参考網は12月3日、台湾のFTNNニュースが12月2日に報じたところによると、TSMCは7月に大規模な技術漏洩事件に巻き込まれたと報じた。元エンジニアの陳立明氏は、TSMCの新竹サイエンスパーク工場のエンジニア2人、葛一平氏と呉炳軍氏と共謀し、機密の2ナノメートルプロセス技術を盗み出し、競合他社に漏洩した疑いがある。葛一平氏は事件後辞任、呉炳軍氏は解雇され、3人とも司法当局に移送された。台湾高等検察庁は12月2日に捜査を終結させ、国家安全法や営業秘密法など4つの罪状に基づき、東京エレクトロンを起訴し、1億2000万台湾ドル（1台湾ドル約0.23元、編集者注）の罰金を求めた。
報道によると、陳立明氏は以前、日本の大手半導体メーカーである東京エレクトロンの台湾子会社に勤務していた。
報道によると、2ナノメートルプロセス技術を盗んだとされる3人のエンジニアは、いずれも同じ大学を卒業し、同窓生でもあった。陳立明氏はTSMCで8年間の経験を持ち、研究開発、ウェハ製造、調達部門との連携が必要な計測関連の職務を歴任。5ナノメートルや3ナノメートルといった先端プロセスの欠陥改善にも携わっていた。2022年末、陳氏は日本企業にTSMCのエッチング装置サービス担当のシニアマーケティングスペシャリストとして採用された。その後、陳氏は業務上の問題の解決策を探しているかのように、TSMCの従業員である葛一平氏と呉炳軍氏に近づき、TSMCの社内システムにリモートアクセスして、携帯電話でコンピューター画面を撮影し、2ナノメートルプロセスに関する機密情報を送信するよう依頼した。
TSMCは今年7月にこれらの違法行為を発見し、台湾高等検察庁に告訴した。高等検察庁知的財産部は、7月25日から28日にかけて、関与したエンジニア3名を召喚し、拘留した。
検察は、陳立明が本件の主要容疑者であり、海外での使用を目的とした営業秘密窃盗を含む3つの罪に関与し、合計14年の刑に処せられると指摘した。呉炳軍は9年の刑、葛一平は7年の刑に処せられる。9月1日午前、高等検察庁は3名のエンジニアを知的財産商事裁判所に移送し、審理を開始した。審理では、拘留期間の延長が決定された。合議体による審理の後、3名全員を面会権なしでさらに3ヶ月間拘留することが決定された。
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