この記事のポイント
- 東京エレクトロンが、半導体技術の未来を拓く「2026年度 共同研究公募制度」を開始しました。
- 大学や研究機関との連携を深め、オープンイノベーションを推進し、革新的な研究テーマを募集しています。
- 募集分野は、半導体・ディスプレイ製造装置の基盤技術や応用技術、将来の事業領域に貢献するシーズ技術など多岐にわたります。
- 応募資格は日本国内の大学、高等専門学校、公的研究機関の研究者で、技術ニーズとの関連性、独創性、将来性などが評価されます。
- 応募受付期間は2026年7月28日(火)から8月13日(木)必着です。
東京エレクトロン、未来の半導体技術を共創する共同研究公募を実施
東京エレクトロンは、「最先端の技術と確かなサービスで、夢のある社会の発展に貢献します」という基本理念のもと、半導体製造装置メーカーとして、半導体の技術革新に挑戦し続けています。この取り組みをさらに加速させるため、大学や研究機関との連携を深め、産学連携によるオープンイノベーションを積極的に推進しています。
その一環として、「2026年度 東京エレクトロン 共同研究公募制度」を実施し、半導体技術のブレークスルーや、その先の夢のある社会の発展に貢献しうる革新的な研究テーマを、アカデミアの皆さまとともに推進することを目的として、広く募集を開始しました。
本公募制度の目的と期待されること
本制度は、東京エレクトロンが持つ半導体製造装置およびプロセス技術に関する知見・リソースと、大学や研究機関の皆様が有する独創的なアイデアや基礎研究のシーズとを融合させることにより、従来の枠にとらわれない新たな価値創造を目指すものです。半導体産業の持続的な発展と、より豊かな社会の実現に貢献する革新的な技術の創出を期待しています。
募集する研究テーマの分野
本制度では、研究テーマの技術成熟度に応じた研究プログラム(原理検証・応用研究)を設けており、以下の分野に関するテーマを幅広く募集します。
- 東京エレクトロンの製品である半導体製造装置(成膜、コータ/デベロッパ、エッチング、洗浄、プローバ、3次元実装等)および、ディスプレイ製造装置に関する基盤技術や応用技術の研究、特にデバイス・ウェーハ製造プロセスにおける新たなニーズに適合する研究
- 上記に関連し、将来的な東京エレクトロンの事業領域への貢献が期待される、独創的かつ挑戦的なアカデミックな視点からのシーズ技術の研究(材料、プロセス、計測、シミュレーション、AI活用等を含む)
応募資格について
日本国内の大学、高等専門学校、または公的研究機関に所属する研究者の方が応募対象となります。
審査の主な観点
ご提案いただく研究テーマについては、主に以下の観点を重視し、総合的に評価・選考いたします。
- 東京エレクトロンの事業領域である半導体製造装置技術における技術ニーズとの明確な関連性があること。
- 将来的な東京エレクトロンの事業領域への貢献が期待される、独創的かつ将来性のあるシーズ技術に関する研究であること。
- 共同研究計画提案書の内容が具体的かつ明確であり、研究計画の妥当性、実現可能性、および研究の継続性の観点から優れていること。
募集要項・応募書類の入手方法
募集要項、応募書類(共同研究計画提案書)などの詳細は、東京エレクトロンのウェブサイト「共同研究公募制度」ページよりダウンロードしてご覧ください。
https://www.tel.co.jp/rd/jointresearch/index.html
応募受付期間
2026年7月28日(火)~ 2026年8月13日(木)必着
未来を切り拓く皆様からのご提案をお待ちしております
東京エレクトロンは、本制度を通じて、研究者の皆さまとの対話を深め、互いの強みを活かした共同研究を推進してまいりたいと考えております。皆さまの斬新なアイデアと、未来の半導体技術を切り拓く熱意あるご提案を心よりお待ちしております。
【本公募制度に関するお問い合わせ先】
東京エレクトロン 共同研究公募制度事務局
メール: telstdkyokenkoubo@tel.com
出典: 元記事を読む
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