EUVリソグラフィ最前線！次世代半導体開発を加速する技術講演会

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この記事のポイント

• EUVリソグラフィの最新動向と次世代スケーリングの可能性を探る講演会
• ASMLジャパンの専門家がHigh-NA EUVやHolisticアプローチについて解説
• SEAJ会員企業向けに、技術・市場動向の把握や知見共有の場を提供
• オンライン（Teams）または対面でのハイブリッド開催
• 参加費無料、申し込み締め切りは3月11日（水）

【開催概要】EUVリソグラフィが拓く次世代スケーリング

SEAJリソグラフィ専門委員会では、最新のリソグラフィ技術や半導体デバイス（Logic、DRAM、SCMなど）の技術・市場動向を把握するため、定期的に講演会を開催しています。この度、EUVリソグラフィに焦点を当てた講演会「EUVリソグラフィが拓く次世代スケーリング」を開催する運びとなりました。

本講演会では、EUVを中心とした露光装置技術の最前線について、専門家をお招きして詳細なご講演をいただきます。また、参加者の皆様との活発な意見交換を通じて、委員の皆様の知見を深め、企業間の技術的な相乗効果を生み出す場となることを目指しています。

【開催日時・場所】

開催日時: 2026年3月16日(月) 16:00～17:05

開催場所: SEAJ事務局 Teams（ハイブリッド開催）

【講師紹介】

講師: ASMLジャパン株式会社 永原 誠司 氏

【講演内容】

EUVリソグラフィの最新動向を中心に、High-NA EUVリソグラフィの方向性やHolisticアプローチがもたらす発展性について概説し、ASMLの次世代技術の展望を示します。

【タイムテーブル】

15:55 接続開始

16:00 開催挨拶（リソグラフィ専門委員長）

16:05 ご講演

16:50 質疑応答

17:05 閉会挨拶・接続終了

【参加対象・費用】

対象: SEAJ会員企業

費用: 無料

【お申し込み方法】

お申し込み締め切りは3月11日(水)です。

お申込み後、すぐに自動返信メールが送信されます。メールが届かない場合は、正常に受付が完了していない可能性がございます。その際は、お手数ですが下記の事務局担当までお問い合わせください。

担当: SEAJ事務局 大久保

e-mail: souchi.seigyo@seaj.or.jp

TEL: 03-5357-1542 (直通) / 03-3261-8260 (代表)

【事前準備のお願い（Teams接続）】

Teamsに接続するために、以下の準備をお願いいたします。

• インターネットに接続できるPC
• 音声デバイス（マイク・スピーカー・ヘッドセット 等）
• サポートされているブラウザ: Microsoft Edge, Chrome 他

PCの環境を事前に確認の上、ご利用ください。あらかじめアプリをインストールしておくとスムーズにゲストとして利用できますが、インストールせず、Webブラウザでの参加も可能です。音声/カメラデバイスの設定をテストすることをお勧めします。

◇テスト通話について:

Teamsの上部にあるプロファイル画像の横にある「その他のオプションを表示する場合に選択します」を選択し、「設定」>「デバイス」を選択。「オーディオ デバイス」で「テスト通話を行う」を選択してください。（詳細はMicrosoft Teamsのページをご確認ください）

【当日の参加手順】

開催日の2～3日前に、ページトップに掲載される「20260316_当日のURL_PW.pdf」をクリックし、記載の接続URLにアクセスしてください。（アプリをインストールしない場合はWebブラウザが起動します）

Teams講演会の画面が開きましたら、カメラの使用許可を求められる場合があります。「ブロック」を選択して構いません。

[名前を入力] 欄に、「会社名」「氏名」がわかるように入力し、「参加」をクリックしてください。事務局の出欠確認にご協力をお願いいたします。例）SEAJ 大久保

アクセスするとすぐにTeams会議の画面が表示されます。

【その他Teams使用上の注意事項】

• 録音・録画について: 皆様におかれましては、録音・録画はご遠慮ください。事務局では、運営の参考にする為、録画させていただく場合がございます。予めご了承ください。
• ご質問について:
  • ① 講演中は「Q&A」機能をご利用ください。講演終了後に回答を予定しています。
  • ② 講演終了後は「挙手」機能をご利用ください。「挙手」の上、司会者の指示に従いご発言ください。

※ご質問はできるだけ早い方から順に対応させていただきます。

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