Rapidus社、先端半導体製造向けAI設計ツールを発表 ツールは2026年以降にリリース予定
更新日：2025年12月17日
情報
2025年12月17日、東京、セミコン・ジャパン、ブースE5345 – Rapidus株式会社は本日、Rapidus AI-Assisted Design Solution（Raads）をサポートする新たなAI設計ツールスイートを発表しました。これは、同社のRapid and Unified Manufacturing Service（RUMS）コンセプトの実現を支援する重要な取り組みです。この技術アプローチはRapidus AI-Agentic Design Solutionにリブランドされ、2026年以降に複数のツールがリリースされ、プロセス設計キットおよびリファレンスフローと共にお客様に提供されます。新ツールには以下が含まれます。
Raads Generator：大規模言語モデル（LLM）に基づくEDAツール。設計者が半導体仕様を入力すると、Raads GeneratorはRapidusの2nm製造プロセスに最適化されたレジスタ転送レベル（RTL）設計データを出力します。
Raads Predictor：物理設計、配置配線におけるRTLデバッグと最適化のためのツールです。Raads Predictorは、短時間で電力性能面積（PPA）を予測します。
設計者はRaads Generatorを用いて設計アイデアと希望する仕様をRTLソースコードとして記述し、Synopsys Design Constraints（SDC）と共にRaads Predictorにデータを入力すると、Rapidus社が製造するシリコンのPPAを予測できます。
Raadsは、AIによって半導体設計を支援するだけでなく、最先端の半導体デバイス設計におけるAIエージェントとしても機能します。既存のEDAツールとRaadsを併用することで、開発者は設計時間を50%、設計コストを30%削減できます。
Raads GeneratorとRaads Predictorのリリースに続き、Rapidusは2026年を通して以下のツールもリリースする予定です。
Raads Navigator / Raads Indicator：LLMを活用し、設計者が設計上の課題や問題に対する解決策を導き出すための品質保証と支援を提供します。
Raads Manager：ML/AIを活用し、設計時間を最小限に抑える階層型構成を作成するレイアウト設計ツールです。
Raads Optimizer：ML/AIを適用し、PPAを最適化するためのパラメータを探索・導出します。
RapidusのInnovative Integration for Manufacturing（IIM-1）ファウンドリは、すべての製造プロセスにシングルウェーハプロセスを導入します。2025年6月、Rapidusは世界最先端の半導体装置200台以上を接続し、2nm GAAプロトタイピングをサポートする全く新しい自動材料処理システムを実現しました。ラピダスは7月、IIM-1で試作を開始し、試作ウェハの電気特性測定を開始したことを発表しました。
ラピダス株式会社について
ラピダス株式会社は、世界最先端のロジック半導体の開発・製造を目指しています。設計、ウェハプロセス、3Dパッケージングなど、様々な工程におけるサイクルタイム短縮を実現するサービスの開発・提供を通じて、お客様と共に新たな産業を創造します。半導体の活用を通じて、人々の生活の豊かさ、豊かさ、そして幸福に貢献できるよう、私たちは挑戦を続けます。
ラピダス株式会社
本社：〒102-0083 東京都千代田区麹町4-1
設立：
2022年8月10日
事業内容：
半導体デバイス、集積回路、その他の電子部品の開発、設計、製造、販売
資本金（2022年11月現在）：
73億4,600万円（準備金を含む）
米国メディア連絡先：ラピダス担当 Breakaway Communications メールアドレス：rapidus@breakawaycom.com
出典: 元記事を読む
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